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    正雄振動研磨機常用的拋光方式

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    正雄振動研磨機常用的拋光方式

    發布日期:2015-09-25 00:00 來源:http://www.rodneyv.com 點擊:

        現在常用的振動研磨機拋光辦法有以下幾種:

        1.1 機械拋光

        機械拋光是靠切削、資料外表塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到滑潤面的拋光辦法,通常運用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手藝操縱為主,特別零件如反轉體外表,可運用轉臺等輔助工具,外表質量 可選用超精研拋的辦法.超精研拋是選用特制的磨具,在富含磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工外表上,作旋轉運動.使用該技術能夠到達 Ra0.008 μ m 的外表粗拙度,是各種拋光辦法.光學鏡片模具常選用這種辦法.

        1.2 化學拋光

        化學拋光是讓資料在化學介質中外表微觀凸出的部分較凹部分優先溶解,然后得到滑潤面.這種辦法的主要長處是不需雜亂設備,能夠拋光外形雜亂的工件,能夠一起拋光良多工件,效率高.化學拋光的中心標題是拋光液的配制.化學拋光得到的外表粗拙度通常為數 10 μ m .

        1.3 電解拋光

        電解拋光基本原理與化學拋光相同,即靠選擇性的溶解資料外表微小凸出部分,使外表潤滑.與化學拋光比較,能夠消除陰極反響的影響,作用較好.電化學拋光過程分為兩步:

        ( 1 )微觀整平 溶解產品向電解液中分散,資料外表幾許粗拙降低, Ra > 1 μ m .

        ( 2 )微光平坦 陽極極化,外表光亮度進步, Ra < 1 μ m .


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